氯化铁对于铜箔的蚀刻原理

来源:未知日期:2019-01-13 16:42 浏览:

氯化铁对于铜箔的蚀刻原理
氯化铁不仅在净水方面有应用,并且在对于铜箔蚀刻方面也有很好的作用,那么,氯化铁对于铜箔的蚀刻原理是什么呢?
氯化铁的溶液组分非常简单,对于图形电镀前的微蚀刻处理,印制板蚀刻等有很好的蚀刻作用,并且蚀刻之后的产物只有硫酸铜,因此蚀刻液是可以回收再生得到纯度高的硫酸铜晶体,因此大大减少废液排放和环境污染。氯化铁蚀刻液适合用于网印抗蚀印料、液体感光胶、干膜、金等抗蚀层的丝印板的蚀刻。但不合用于镍、锡、锡-铅合金等抗蚀层。氯化铁对于铜箔的蚀刻原理: 
蚀刻时的主要化学反应三氯化铁蚀刻液对铜箔的蚀刻是一个氧化-还原过程。铜表面Fe3+使铜氧化成氯化亚铜。同时Fe3+被还原成Fe2+ FeCl3+CuFeCl2+CuCl 可以和FeCl3进一步发生反应天生氯化铜。CuCl具有还原性。 FeCl3+CuClFeCl2+CuCl2 与铜发生氧化反应:Cu2+具有氧化性。 CuCl2+Cu2CuCl FeCl3蚀刻液对Cu蚀刻时靠Fe3+和Cu2+共同完成的其中Fe3+蚀刻速率快,所以。蚀刻质量好;而Cu2+蚀刻速率慢,蚀刻质量差。新配制的蚀刻液中只有Fe3+所以蚀刻速率较快。但是跟着蚀刻反应的进行,Fe3+不时消耗,而Cu2+不时增加。当Fe3+消耗掉35%时,Cu2+已增加到相称大的浓度,这时Fe3+和Cu2+对Cu蚀刻量几乎相等;当Fe3+消耗掉50%时,Cu2+蚀刻作用由主要地位而跃居主要地位,此时蚀刻速率慢,即应考虑蚀刻液的更新。 

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